Studies on Sn Thin Film Decomposition Using VHF hydrogen plasmas

1) News

release

by

TSMC,

Oct

7,

2019,

https://www.tsmc.com/tsmcdotcom/PRListingNewsAct

ion.do?action=detail&language=E&newsid=THHIHIP

GTH

2) H. Mizoguchi, H. Nakarai, T. Abe, K. M. Nowak, Y.

Kawasuji, H. Tanaka, Y. Watanabe, T. Hori, T.

Kodama, Y. Shiraishi, T. Yanagida, T. Yamada, T.

Yamazaki, S. Okazaki, T. Saitou, Proc. SPIE, 1009702

(2017).

3) H. Mizoguchi, H. Nakarai, T. Abe, T. Ohta, K. M.

Nowak, Y. Kawasuji, H. Tanaka, Y. Watanabe, T. Hori,

T. Kodama, Y. Shiraishi, T. Yanagida, T. Yamada, T.

Yamazaki, S. Okazaki, T. Saitou, Proc. SPIE,

867986790A (2013).

4) Gunther Nicolussi, Eugen Beck, IEEE SEMI

Advanced Semiconductor Manufacturing Conference.

0-7803-71 (2002).

5) H. Tanaka, A. Matsumoto, K. Akinaga, A. Takahashia,

T. Okada, Appl. Phys. Lett. 87, 5 (2005).

令和 2 年度

九州大学大学院総合理工学報告

6) M.M.J.W. van Herpen, D.J.W. Klunder, W.A. Soer, R.

Moors, V. Banine, Chem. Phys. Lett. 484, 197 (2010).

7) D. Ugur, A. J. Storm, R. Verberk, J. C. Brouwer, W. G.

Sloof, Chem. Phys. Lett. 552, 122 (2012).

8) D. Ugur, A.J. Storma, R. Verberk, J.C. Brouwer, W.G.

Sloof, Appl. Surf. Sci. 288, 673 (2014).

9) D. T. Elg, J. R. Sporre, G. A. Panici, S. N. Srivastava,

D. N. Ruzic, J. Vac. Sci. Technol. A, Vac. Surf. Film.

34, 021305 (2016).

10) D. T. Elg, G. A. Panici, S. Liu, G. Girolami, S.N.

Srivastava, D. N. Ruzic1, Plasma Chem. Plasma

Process. 38, 223 (2018).

第 42 巻

第2号

17

11) M. Ji, R. Nagata, K. Uchino, Plasma Fusion Res. to be

published in 2021.

12) L. Birdos, Surface and Coatings Technology, 86-87,

648 (1996).

13) Y.Ohtsu and Y.Kawasaki, J. Appl. Phys. 113, 033302

(2013).

14) K. Tamaru, J. Phys. Chem. 60, 610 (1956).

15) L. St-Onge and M. Moisan, Plasma Chem. Plasma

Process. 14, 87 (1994).

16) M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, "Principles of

Plasma Discharges and Materials Processing", 2nd

ed., Wiley, Hoboken, NJ, (2005) p. 188.

...