1. M. Rieth et al., J. Nucl. Mater., 432, 482 (2013).
2. Y. Liu, Y. Zhang, F. Jiang, B. Fu, and N. Sun, J. Nucl. Mater., 442, S585 (2013).
3. N. Sun, Y. Zhang, F. Jiang, S. Lang, and M. Xia, Fusion Eng. Des., 89, 2529 (2014).
4. F. Jiang, Y. Zhang, N. Sun, W. Cheng, and X. Ding, J. Nucl. Mater., 455, 416 (2014).
5. F. Jiang, Y. Zhang, N. Sun, and Z. Liu, Appl. Surf. Sci., 317, 867 (2014).
6. F. Jiang, Y. Zhang, N. Sun, and J. Leng, Appl. Surf. Sci., 327, 432 (2015).
7. F. Jiang, Y. Zhang, N. Sun, and J. Leng, Appl. Surf. Sci., 331, 278 (2015).
8. Y. H. Liu, Y. C. Zhang, Q. Z. Liu, X. L. Li, and F. Jiang, Fusion Eng. Des., 87, 1861 (2012).
9. A. Katagiri, M. Suzuki, and Z. Takehara, J. Electrochem. Soc., 138, 767 (1991).
10. H. Takenishi and A. Katagiri, Electrochemistry, 67, 669 (1999).
11. M. Masuda, H. Takenishi, and A. Katagiri, J. Electrochem. Soc., 148, C59 (2001).
12. H. Nakajima, T. Nohira, and R. Hagiwara, Electrochem. Solid-State Lett., 8, C91 (2005).
13. S. Senderoff and G. W. Mellors, Science, 153, 1475 (1966).
14. S. Senderoff and G. W. Mellors, J. Electrochem. Soc., 114, 586 (1967).
15. V. A. Pavlovskii, Prot. Met., 42, 170 (2006).
16. H. Nakajima, T. Nohira, R. Hagiwara, K. Nitta, S. Inazawa, and K. Okada, Electrochim. Acta, 53, 24 (2007).
17. K. Nitta, M. Majima, S. Inazawa, T. Nohira, and R. Hagiwara, Electrochemistry, 77, 621 (2009).
18. K. Nitta, T. Nohira, R. Hagiwara, M. Majima, and S. Inazawa, Electrochim. Acta, 55, 1278 (2010).
19. T. Nohira, K. Kitagawa, R. Hagiwara, K. Nitta, M. Majima, and S. Inazawa, Trans. Mater. Res. Soc. Jpn, 35, 35 (2010).
20. T. Nohira, T. Ide, X. Meng, Y. Norikawa, and K. Yasuda, J. Electrochem. Soc., 168, 046505 (2021).
21. X. Meng, Y. Norikawa, and T. Nohira, Electrochem. Commun., 132, 107139 (2021).
22. A. N. Vtyurin, J. V. Gerasimova, A. S. Krylov, A. A. Ivanenko, N. P. Shestakov, N. M. Laptash, and E. I. Voyt, J. Raman Spectrosc., 41, 1784 (2010).
23. H. Fischer, Elektrolytische Abscheidung und Elektrokristallisation von Metallen (Springer, Berlin) p. 471 (1954).
24. R. Winand, Electrochim. Acta, 39, 1091 (1994).
25. V. H. Hartmann, F. Ebert, and O. Bretschneider, Z. Anorg. Allg. Chem., 198, 116 (1931), [in German].
26. Y. G. Shen and Y. W. Mai, Mater. Sci. Eng., 28, 176 (2000).
27. A. Chattaraj et al., Sci Rep., 10, 14718 (2020).
28. M. H. F. Sluiter, Phys. Rev. B, 80, 220102 (2009).
29. P. Petroff, T. T. Sheng, A. K. Sinha, G. A. Rozgonyi, and F. B. Alexander, J. Appl. Phys., 44, 6 (1973).
30. P. Petroff and W. A. Reed, Thin Solid Films, 21, 73 (1974).
31. M. J. O’Keefe and C. L. Cerny, Mat. Res. Soc. Symp. Proc., 387, 377 (1995).
32. P. C. Jiang, J. S. Chen, K. H. Cheng, T. J. Hu, K. B. Huang, and F. S. Lee, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 917, 1201 (2006).
33. H. L. Sun, Z. X. Song, D. G. Guo, F. Ma, and K. W. Xu, J. Mater. Sci. Technol., 26, 87 (2010).
34. Q. Hao, W. Chen, and G. Xiao, Appl. Phys. Lett., 106, 182403 (2015).
35. C. F. Pai, L. Liu, Y. Li, H. W. Tseng, D. C. Ralph, and R. A. Buhrman, Appl. Phys. Lett., 101, 122404 (2012).